Nano Banana 2.1 mask: sunting kawasan dilukis sahaja
Jika anda mencari suntingan mask Nano Banana 2.1, anda mungkin tidak memerlukan ringkasan pelancaran lagi. Anda perlukan satu jawapan praktikal: bagaimana menukar jaket, papan kedai, atau pejalan tanpa seluruh bingkai berubah bentuk. Nano Banana 2.1 menjadikan «lukis bulatan satu kawasan, sunting kawasan itu sahaja» lebih boleh dipercayai untuk pencipta—panduan ini menunjukkan cara menggunakannya.
Versi ringkas: pilih doodle / mask bulatan atau penamaan semantik; nyatakan dengan jelas apa yang berubah dan apa yang mesti kekal; naikkan Thinking ke high untuk kerja tempatan yang padat. Fakta mengikut kad model dan dokumentasi penjana imej. Tapak ini panduan pencipta bebas—bukan dokumen rasmi. Untuk konteks pelancaran, lihat Nano Banana 2.1 GA dan migrasi.
Mula sekarang dengan alat imej Nano Banana 2
Apa itu suntingan mask kawasan—dan beza daripada suntingan sembang seluruh bingkai
Suntingan perbualan seluruh bingkai sesuai untuk «ubah suasana.» Suntingan mask kawasan untuk «komposisi dan cahaya sudah dikunci; hanya satu titik boleh bergerak.»
| Kaedah | Cara menyasarkan kawasan | Terbaik apabila |
|---|---|---|
| Doodle / mask bulatan | Lukis atau cat kawasan pada imej input, kemudian tulis arahan | Sempadan jelas: sofa, papan, tangan, jaket |
| Mask semantik | Namakan objek dalam teks dan senaraikan apa yang mesti kekal | Anda boleh namakannya dengan jelas: kerusi merah, logo kiri atas, pejalan latar |
Mesej produk 2.1 meletakkan kawalan tempatan di bawah reka bentuk visual, suntingan bergaya mask, dan ketekalan subjek. Yang dirasai pencipta: wajah, garis besar produk, dan arah bayang di luar tanda kurang cenderung digambar semula secara tidak sengaja. Jika anda hanya tahu sembang berbilang giliran seluruh bingkai, baca dahulu suntingan imej perbualan—itu tentang bersembang; ini tentang menyunting satu tampalan.
Dua laluan: doodle mask lawan penamaan objek
Laluan A: doodle / bulatan (apabila sempadan penting)
- Buka alat imej Nano Banana 2 dan pilih Nano Banana 2.1 / model imej Flash terkini dalam UI.
- Muat naik sumber; lukis bulatan ketat kontras tinggi atau cat kawasan yang diubah (ketat lebih baik daripada longgar).
- Prompt hanya apa yang menjadi kawasan bertanda, dan katakan «semua di luar kekal sama; buang garis yang dilukis.»
- Zum tepi: tinggal goresan? objek jiran ikut dimakan?
Laluan B: penamaan semantik (lebih pantas apabila boleh namakan)
Tanpa melukis. Rangka:
Ganti hanya kerusi berlengan merah dengan fabrik baldu kelabu gelap. Kekalkan pose orang, arah cahaya tingkap, pantulan lantai kayu, dan komposisi keseluruhan. Jangan ubah wajah atau pakaian.
Kegagalan semantik biasanya daripada kata nama kabur («benda itu») atau senarai kekal yang hilang. Letakkan senarai kekal dalam prompt yang sama—lebih murah daripada pusingan pembersihan.
Tiga prompt boleh guna semula (kerja pencipta frekuensi tinggi)
Salin seperti sedia ada. Dengan doodle, «kawasan mask» bermaksud tanda anda. Tanpa doodle, kunci nama objek.
Ganti hanya jaket di dalam kawasan mask dengan windbreaker biru kabus daripada nilon matte, pencahayaan zip sepadan dengan asal. Kekalkan wajah, rambut, seluar, latar jalan, dan arah bayang sepenuhnya tidak berubah. Buang garis yang dilukis. Potret komersial, tepi semula jadi, tanpa tanda air.Tukar hanya teks papan kedai di dalam kawasan mask kepada "Morning Light Coffee" dalam sans-serif putih padat. Kekalkan bingkai logam, dinding bata, pantulan tingkap, dan kedudukan pejalan tidak berubah. Jangan tambah teks lain. Buang goresan doodle.Buang hanya pejalan dan bayangnya di dalam kawasan mask. Isi dengan turapan jalan yang berterusan dan muka kedai jauh yang lembut. Kekalkan produk hero, sudut kamera, dedahan, dan suhu warna tidak berubah. Tiada tepi koyak. Fotoreal, tanpa tanda air.Salinan pendek dalam imej masih boleh melembut—padankan dengan lokalisasi teks dalam imej apabila papan ialah bahagian sukar.
Tahap Thinking dan senarai semak lulus/gagal
2.1 menyokong minimal / medium (lalai) / high. Peraturan praktikal:
- Warna semula, buang objek kecil, tukar bahan tunggal →
mediumatauminimal - Teks papan pendek, baiki tangan, sempadan sesak → cuba
highdan terima sedikit lebih latency
Semakan 30 saat (gagal → ketatkan mask dan ulang):
- Adakah wajah / logo / garis besar produk di luar mask kelihatan tidak disentuh?
- Adakah objek baharu berkongsi arah cahaya asal, atau nampak ditampal?
- Adakah goresan doodle sudah hilang?
- Adakah kiri/kanan atau depan/belakang terbalik?
Masih goyah? Kecilkan tanda, satu sasaran setiap larian, tulis senarai kekal sebagai bullet pendek. Mengikuti mask / doodle kuat tetapi tidak sempurna setiap kali—anggap hasil sebagai draf berketepatan tinggi dan semak saiz penuh sebelum terbit.
Penutup
Suntingan mask kawasan Nano Banana 2.1 kurang kata popular, lebih tabiat: bulatan lebih ketat, prompt dipisah ubah lawan kekal, high untuk teks dan tangan, serta empat semakan yang menghentikan lukisan semula seluruh bingkai. Kekalkan volum harian pada 2.1; hantar komposit gred cetak ke Pro. Jalankan satu tukar pakaian, satu tukar papan, dan satu buang pejalan pada alat tapak ini—lebih pantas daripada membaca jadual ciri.